■2026NEW環境展
NEW環境展インフォメーション
https://www.n-expo.jp/
WEFブース：東3 A301
会期：2026年5月20日（水）～5月22日（金）3日間
時間：午前10時～午後5時（最終日は午後4時まで）
会場：東京ビッグサイト（有明） 東展示棟 及び 屋外会場
〒135-0063 東京都江東区有明三丁目10番1号
入場：「完全事前登録制」になっています。ご注意ください。
https://nexpo2026.ex-system.tech/visitor/
展示品：今回は新しい「W-GaiaⅡ」を展示する予定です。
出展目的
下記「最近の動向」にも記載いたしますが、当社開発のAOS（Active Oxygen System）Technologyの研究が進み、色々な効果・可能性が判明してまいりました。展示会場では貴社の課題解決、既存事業の新たな展開などについて、ご提案できればと考えております。
※当社の活性酸素生成装置の名称が「AOS」ですが、それを利用した処理システムも、」他の活性酸素処理（AOPsやプラズマ）との差別化を図るために、AOSと呼称しています。
■ 最近の動向
AOSを開発して10年あまりになります。この間、当社も活性酸素種について研究してきましたが、大学教授を初め研究者の方々とのネットワークが出来、多くのアドバイスを頂くことが出来ました。
その中で、AOSの能力やAOS処理に出来た生成物について、新しい発見がいろいろありました。AOS利用の可能性につきましては、皆様にもご連絡させていただいておりますが、小生のブログ（http://blog.livedoor.jp/aoyamaakira/）で10の案件を提案しております。
これらを見て頂いた企業、大学からの共同開発・研究の申し込みも増えています。
たとえば、Ｈ大学半導体研究所からは半導体排水のリサイクル技術開発です。今後AIが普及すると半導体不足が起こります（現在すでに起こっているようですが）、世界中で半導体工場の建設が進むと思われますが、そこで問題になるのは水です。生産拡大と水不足。このギャップを埋めるのが大学になります。Ｈ大学はAOSの可能性を確認し、今年度から処理システム技術開発に取組みます。半導体製造装置は1台づつ独立していますので、使用水リサイクルが確立できれば、製造装置1台にAOS1つ必要になります。
また、圧倒的な世界シェアを持つ、半導体加工企業からは、加工時に発生する微細粉塵、ガス対策として、AOSの可能性確認試験の依頼がありました。
半導体関係では製造したウェハ上の不要物除去での利用の引合いもあります。
上記の研究が実機化されれば、AOSは半導体の必須アイテムになる可能性があります。
また、当社がもみ殻から抽出しておりますアモルファス（非結晶）シリカですが、最近の調査で、300℃で抽出している例は世界的に他になく、300℃で出来るアモルファスシリカは特異な性能があり、バイオテンプレートシリカという部類に属する可能性があるということです。現在確認のための分析を行っています。
このように、AOSは大きな可能性を秘めております。
■WEFのPFAS処理を記載した本が出版されます。
AndTech社より「 PFAS 処理最新技術 ～規制動向と分離・分解・再資源化技術～」が5月末に発売の予定です。
この中で当社の「TERRAST凝集」、「AOS分解」処理技術が「 活性イオン凝集法（TERRAST）と活性酸素触媒法を組み合わせたPFAS分離・分解プロセスの処理特性評価」（青山寄稿）が掲載されます。
最終決定しましたら詳細は再度ご連絡させていただきます。